|
Дополнительная информация о статье
|
ТОМ 1 |
ГОД 2018 |
СТРАНИЦЫ 19-21 |
КОДЫ КЛАССИФИКАТОРОВ
УДК 533.9
КЛЮЧЕВЫЕ СЛОВА
отражательный разряд, потенциал плазмы, источник плазмы, плазменная сепарация
АННОТАЦИЯ
Сопряжение буферного разряда с пространственным распределением потенциала и источника плазмы модельных веществ является важной задачей для развиваемого метода плазменной сепарации с потенциальной ямой. В работе представлены результаты исследования влияния материала внешней поверхности полого анода источника плазмы на основе несамостоятельного дугового разряда с накаленным катодом на радиальное пространственное распределение потенциала отражательного разряда. Экспериментально показано, что использование дополнительного диэлектрического либо изолированного металлического экрана на внешней поверхности позволяет снизить влияние потенциала анода на пространственное распределение электрического потенциала в буферной плазме и существенно увеличить градиенты электрического поля вблизи инжектируемой плазменной струи.
TITLE
The study of the effect of anode outer surface material and geometry of plasma jet injector on the spatial distribution of electric field in reflex discharge background plasma
AUTHORS
Antonov N.N., Liziakin G.D.
KEYWORDS
Plasma separation, plasma potential, reflex discharge, plasma source
ABSTRACT
А pairing of the background discharge with the spatial distribution of the potential and the plasma source of model substances is an important task for the plasma separation method with a potential well currently developing. The paper presents a study of the influence of the anode outer surface material of a plasma source on the radial potential spatial distribution of the reflex discharge. The plasma source is based on the non-self-sustained arc discharge with a hot cathode and hollow anode. It is shown experimentally that the use of an additional dielectric or isolated metal shield on the anode outer surface reduces the effect of the anode potential on the electric potential spatial distribution in the background plasma and significantly increases the electric field gradients near the injected plasma jet.